制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 马斌 ; 沈德芳 ; 狄国庆 ; 杨正 ; 魏福林 |
| 刊名 | 磁性材料及器件
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| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 02 |
| 关键词 | K1 Fe-Ta-N薄膜 磁头材料 软磁性能 制备条件 |
| ISSN号 | 1001-3830 |
| 中文摘要 | 应用射频磁控溅射法制备了 Fe- Ta- N薄膜 ,系统地研究了制备工艺对 Fe- Ta- N薄膜结构和软磁性能的影响。首先 ,制备了不同钽含量的薄膜 ,发现 (Fe89.5Ta10 .5) - N薄膜具有很好的软磁性能 ,氮分压 P(N2 ) =5时 ,矫顽力获得最小值 ,Hc=1 4A/m。此时 ,样品呈现纳米晶结构 ,晶粒尺寸 D≤ 1 0 - 8m。并且 ,钽掺杂能抑制铁氮化合物的生成 ,使薄膜在高氮分压范围内具有高的饱和磁化强度 ,Ms=1 2 4 2 k A/m。其次 ,考察了热处理对 (F |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105511]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马斌,沈德芳,狄国庆,等. 制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响[J]. 磁性材料及器件,2001(02). |
| APA | 马斌,沈德芳,狄国庆,杨正,&魏福林.(2001).制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响.磁性材料及器件(02). |
| MLA | 马斌,et al."制备条件对Fe-Ta-N薄膜的结构和软磁性能的影响".磁性材料及器件 .02(2001). |
入库方式： OAI收割
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