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中子活化法测定硅中注磷剖面分布

文献类型:期刊论文

作者孙福桃 ; 曹如晟 ; 顾琦珍
刊名核技术
出版日期1982
期号04
ISSN号0253-3219
中文摘要<正> 本文对不同注磷能量和不同剂量(5×10~(14)~1×10~(16)/cm~2)的硅片进行了中子活化分析,测定硅中磷的剖面分布、注入剂量及其射程,方法测量下限为4×10~(10)g。 1.实验部分 1).试样辐照和退火 注磷硅片经酒精清洗后包于铝箔中。硅片与磷标准置于中子通量为7×10~~(13)n/cm~2·s的反应堆中辐照50小时,冷却14天。经过堆中子辐照后的注磷硅片置于管形炉中,在700°~900°e
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105527]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
孙福桃,曹如晟,顾琦珍. 中子活化法测定硅中注磷剖面分布[J]. 核技术,1982(04).
APA 孙福桃,曹如晟,&顾琦珍.(1982).中子活化法测定硅中注磷剖面分布.核技术(04).
MLA 孙福桃,et al."中子活化法测定硅中注磷剖面分布".核技术 .04(1982).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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