自动送片式反应离子刻蚀机
文献类型:期刊论文
作者 | 沈国雄 ; 严金龙 |
刊名 | 微电子学与计算机
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出版日期 | 1989 |
期号 | 06 |
ISSN号 | 1000-7180 |
中文摘要 | <正> 随着VLSI技术的发展,集成密度不断提高,器件图形特征尺寸愈来愈小。传统的湿法化学腐蚀已不能适应微细线条腐蚀的需要。反应离子刻蚀是一种离子辅助等子技术,它兼有离子刻蚀的高分辨率和等离子化学腐蚀的高腐蚀速率的优点。可以实现亚微米级的微细加工。VLSI工艺技术的提高及工业性大生产的需要。对刻蚀工艺的稳定性和刻蚀系统的效率提出了更高的要求。近年来国外已发展了带真空室和自动送片机构的反应离子刻蚀机,为了适应我国集成电路研究和生产的需要,本所研制成功自动送片式高性能的反应离子刻蚀机。并已成功地应用于集成 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105549] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈国雄,严金龙. 自动送片式反应离子刻蚀机[J]. 微电子学与计算机,1989(06). |
APA | 沈国雄,&严金龙.(1989).自动送片式反应离子刻蚀机.微电子学与计算机(06). |
MLA | 沈国雄,et al."自动送片式反应离子刻蚀机".微电子学与计算机 .06(1989). |
入库方式: OAI收割
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