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自动送片式反应离子刻蚀机

文献类型:期刊论文

作者沈国雄 ; 严金龙
刊名微电子学与计算机
出版日期1989
期号06
ISSN号1000-7180
中文摘要<正> 随着VLSI技术的发展,集成密度不断提高,器件图形特征尺寸愈来愈小。传统的湿法化学腐蚀已不能适应微细线条腐蚀的需要。反应离子刻蚀是一种离子辅助等子技术,它兼有离子刻蚀的高分辨率和等离子化学腐蚀的高腐蚀速率的优点。可以实现亚微米级的微细加工。VLSI工艺技术的提高及工业性大生产的需要。对刻蚀工艺的稳定性和刻蚀系统的效率提出了更高的要求。近年来国外已发展了带真空室和自动送片机构的反应离子刻蚀机,为了适应我国集成电路研究和生产的需要,本所研制成功自动送片式高性能的反应离子刻蚀机。并已成功地应用于集成
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105549]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
沈国雄,严金龙. 自动送片式反应离子刻蚀机[J]. 微电子学与计算机,1989(06).
APA 沈国雄,&严金龙.(1989).自动送片式反应离子刻蚀机.微电子学与计算机(06).
MLA 沈国雄,et al."自动送片式反应离子刻蚀机".微电子学与计算机 .06(1989).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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