磁控溅射沉积铝层及其性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵克宣 ; 王飞凌 |
| 刊名 | 微细加工技术
 |
| 出版日期 | 1985 |
| 期号 | 03 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 中文摘要 | 采用高频磁控溅射生长铝层。研究了各种基片温度、偏压和合金化温度对铝层生长及对Al—Si接触电阻值的影响,并分析了铝层发灰的原因。溅射沉积过程中在样品上加一个适当的偏压,对改善铝层的质量有明显效果。实验获得了性质优良、爬坡能力强、有实用价值的铝层。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105603]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵克宣,王飞凌. 磁控溅射沉积铝层及其性能研究[J]. 微细加工技术,1985(03). |
| APA | 赵克宣,&王飞凌.(1985).磁控溅射沉积铝层及其性能研究.微细加工技术(03). |
| MLA | 赵克宣,et al."磁控溅射沉积铝层及其性能研究".微细加工技术 .03(1985). |
入库方式： OAI收割
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