磁性石榴石膜的生长和晶格失配
文献类型:期刊论文
作者 | 王洪祥 ; 刘湘林 ; 杜三庆 ; 郭懋端 |
刊名 | 人工晶体
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出版日期 | 1988 |
期号 | Z1 |
ISSN号 | 1000-985X |
中文摘要 | <正> 用液相外延等温浸渍法在(111)Gd_3Ca_5O_(12)(GGG)衬底上生长稀土铁石榴石单晶薄膜,研究了不同的外延生长工艺对薄膜晶格失配等性能的影响。不同外延温度生长的薄膜中,各元素的含量不同,膜的晶格常数就有差异,而膜和衬底之间的晶格失配(△α)将影响膜的性能,磁畴结构和易磁化方向,对于不同应用的薄膜,应注意选择合适的生长温度。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105612] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王洪祥,刘湘林,杜三庆,等. 磁性石榴石膜的生长和晶格失配[J]. 人工晶体,1988(Z1). |
APA | 王洪祥,刘湘林,杜三庆,&郭懋端.(1988).磁性石榴石膜的生长和晶格失配.人工晶体(Z1). |
MLA | 王洪祥,et al."磁性石榴石膜的生长和晶格失配".人工晶体 .Z1(1988). |
入库方式: OAI收割
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