大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张志明 ; 沈荷生 ; 何贤昶 ; 万永中 ; 杨艺蓉 ; 任琮欣 |
| 刊名 | 微细加工技术
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 04 |
| 关键词 | K1 金刚石薄膜 平坦表面 离子束刻蚀 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 其他题名 | T1 大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化 |
| 中文摘要 | 采用直拉热丝ＣＶＤ法沉积了面积３ 英寸的金刚石薄膜。硅衬底在沉积前采用０－５ ～１μｍ 金刚石微粉研磨，使成核密度达１０１０ 个／ｃｍ２ 以上，同时调整沉积工艺，特别是降低沉积气压至０－５ ～１－５ｋＰａ，促进了金刚石的二次成核，使薄膜变得十分平坦，当薄膜厚度为５μｍ 时，表面粗糙度Ｒａ 仅为６０ｎｍ 左右。另外，以铝作为保护膜，用氧离子束刻蚀金刚石薄膜，得到宽度为３ ～５μｍ 的精细金刚石薄膜图形。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105627]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张志明,沈荷生,何贤昶,等. 大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化[J]. 微细加工技术,1999(04). |
| APA | 张志明,沈荷生,何贤昶,万永中,杨艺蓉,&任琮欣.(1999).大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化.微细加工技术(04). |
| MLA | 张志明,et al."大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化".微细加工技术 .04(1999). |
入库方式： OAI收割
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