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单晶外延层厚度的X射线双晶衍射测定

文献类型:期刊论文

作者朱南昌 ; 李润身 ; 陈京一 ; 许顺生
刊名半导体学报
出版日期1992
期号11
ISSN号0253-4177
中文摘要本文在利用X射线动力学和运动学衍射理论对单晶外延层材料的双晶摇摆曲线进行计算分析的基础上,给出了测定单晶外延层厚度和质量的方法.当外延层的厚度较薄时,外延层衍射峰的衍射强度正比于厚度的平方,半峰宽反比于厚度.当厚度较厚时,衍射峰的强度增加逐渐趋于饱和,而半峰宽趋于材料的本征半峰宽.外延层的干涉小峰间距反比于外延层的厚度.通过测量样品的双晶摇摆曲线上干涉峰间距,峰强比和半峰宽可以求得外延层的厚度,并对外延层的质量做出评价.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105637]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
朱南昌,李润身,陈京一,等. 单晶外延层厚度的X射线双晶衍射测定[J]. 半导体学报,1992(11).
APA 朱南昌,李润身,陈京一,&许顺生.(1992).单晶外延层厚度的X射线双晶衍射测定.半导体学报(11).
MLA 朱南昌,et al."单晶外延层厚度的X射线双晶衍射测定".半导体学报 .11(1992).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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