氮离子注入金刚石薄膜的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 辛火平 ; 林成鲁 ; 王建新 ; 邹世昌 ; 石晓红 ; 林梓鑫 ; 周祖尧 ; 刘祖刚 |
| 刊名 | 中国科学E辑:技术科学
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| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 03 |
| ISSN号 | 1006-9275 |
| 中文摘要 | 采用Raman光谱、四探针法、X射线衍射(XRD)、Rutherford背散射谱(RBS)、Fourier变换红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等手段研究了不同能量不同剂量的N~+注入对CVD金刚石膜的结构和电学性质的影响. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105653]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 辛火平,林成鲁,王建新,等. 氮离子注入金刚石薄膜的研究[J]. 中国科学E辑:技术科学,1997(03). |
| APA | 辛火平.,林成鲁.,王建新.,邹世昌.,石晓红.,...&刘祖刚.(1997).氮离子注入金刚石薄膜的研究.中国科学E辑:技术科学(03). |
| MLA | 辛火平,et al."氮离子注入金刚石薄膜的研究".中国科学E辑:技术科学 .03(1997). |
入库方式： OAI收割
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