等离子体和反应离子刻蚀硅的各向异性及均匀性实验研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 苏毅 ; 谭淞生 ; 孙承龙 ; 陈良尧 ; 王渭源 ; 钱佑华 |
| 刊名 | 传感技术学报
 |
| 出版日期 | 1994 |
| 期号 | 02 |
| ISSN号 | 1004-1699 |
| 中文摘要 | 在反应离子刻蚀(RIE)及等离子体刻蚀(PE)设备中,分别采用CF_4,SF_6,NF_3和C_7F_(14),腐蚀剂气体,对(100)Si进行刻蚀.研究了工艺条件对刻蚀各向异性及均匀性的影响.结果表明,RIE的各向异性与均匀性均优于PE.RIE的各向异性值A与刻蚀气体中的添加剂成份有关,添加20%Ar时A最大值为5.4;添加20%C_2F_5Cl时,A值可高达10以上.在RIE中,CF_4和NF_3,的刻蚀均匀性优于SF_6,最佳刻蚀均匀性平均值优于5%,添加剂对刻蚀均匀性没有明显的影响.而PE显示各向 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105665]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 苏毅,谭淞生,孙承龙,等. 等离子体和反应离子刻蚀硅的各向异性及均匀性实验研究[J]. 传感技术学报,1994(02). |
| APA | 苏毅,谭淞生,孙承龙,陈良尧,王渭源,&钱佑华.(1994).等离子体和反应离子刻蚀硅的各向异性及均匀性实验研究.传感技术学报(02). |
| MLA | 苏毅,et al."等离子体和反应离子刻蚀硅的各向异性及均匀性实验研究".传感技术学报 .02(1994). |
入库方式： OAI收割
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