等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 江炳尧 ; 郑望 ; 王曦 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
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| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1007-4252 |
| 中文摘要 | 采用PIC(Particalincall)方法考察了等离子体浸没式离子注入工艺中,样品和靶台的几何尺寸、形状及防止溅射沾污的绝缘材料对于注入离子径向分布的影响。并对模拟结果进行了讨论分析。结果表明,影响剂量分布的主要因素是基片和靶台的横向尺寸,为改善等离子体浸没式离子注入均匀性的研究提供参考数据。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105667]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 江炳尧,郑望,王曦. 等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究[J]. 功能材料与器件学报,2002(01). |
| APA | 江炳尧,郑望,&王曦.(2002).等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究.功能材料与器件学报(01). |
| MLA | 江炳尧,et al."等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究".功能材料与器件学报 .01(2002). |
入库方式： OAI收割
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