对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王国荃 ; 罗腾蛟 ; 陈福余 ; 徐志如 |
| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1993 |
| 期号 | 02 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 中文摘要 | 本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105755]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王国荃,罗腾蛟,陈福余,等. 对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析[J]. 微细加工技术,1993(02). |
| APA | 王国荃,罗腾蛟,陈福余,&徐志如.(1993).对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析.微细加工技术(02). |
| MLA | 王国荃,et al."对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析".微细加工技术 .02(1993). |
入库方式： OAI收割
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