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非掺半绝缘GaAs晶体中位错作用的初步研究

文献类型:期刊论文

作者莫培根 ; 吴巨 ; 李寿春 ; 詹千宝 ; 杨金华
刊名半导体学报
出版日期1986
期号05
ISSN号0253-4177
中文摘要<正> 由于GaAs高速集成电路的发展,非掺半绝缘GaAs晶体受到很大的重视.高压LEC法生长的圆形大直径衬底,并与直接离子注入技术相结合,已普遍认为是制备IC的可行技术.目前,从富砷熔体的高压LEC/PBN法生长热稳定性良好的半绝缘晶体的工艺,已日趋成熟.晶体生长的研究重点已逐渐转移至完整性和均匀性方面.因此,我们在研
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105823]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
莫培根,吴巨,李寿春,等. 非掺半绝缘GaAs晶体中位错作用的初步研究[J]. 半导体学报,1986(05).
APA 莫培根,吴巨,李寿春,詹千宝,&杨金华.(1986).非掺半绝缘GaAs晶体中位错作用的初步研究.半导体学报(05).
MLA 莫培根,et al."非掺半绝缘GaAs晶体中位错作用的初步研究".半导体学报 .05(1986).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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