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高纯三乙基铝和三乙基镓的研究

文献类型:期刊论文

作者陆凤贞 ; 丁永庆 ; 王嘉宽 ; 彭瑞伍 ; 任尧成 ; 涂嘉浩 ; 张锡卿
刊名化学世界
出版日期1986
期号07
ISSN号0367-6358
中文摘要<正> 一、引言随着半导体工业的日益发展,材料制备工艺已朝着简便和有效的方向发展,金属有机化学气相沉积(Metalorganic ChemicalVapor Deposition——MOCVD)具有操作简单灵活和生长温度低等特点,已成为目前国际上生长各种新型结构的Ⅲ~Ⅴ族化合物半导体材料中最令人关注的一项新工艺。而MOCVD 工艺中需要的关键原材料之一——
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105932]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
陆凤贞,丁永庆,王嘉宽,等. 高纯三乙基铝和三乙基镓的研究[J]. 化学世界,1986(07).
APA 陆凤贞.,丁永庆.,王嘉宽.,彭瑞伍.,任尧成.,...&张锡卿.(1986).高纯三乙基铝和三乙基镓的研究.化学世界(07).
MLA 陆凤贞,et al."高纯三乙基铝和三乙基镓的研究".化学世界 .07(1986).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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