高速双极集成电路中的快速热退火
文献类型:期刊论文
作者 | 何德湛 ; 陈学良 ; 杨华丽 ; 刘晓岚 |
刊名 | 半导体技术
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出版日期 | 1992 |
期号 | 01 |
ISSN号 | 1003-353X |
中文摘要 | 本文介绍近年来发展较快的快速热退火(RTA)技术在高速双极IC(集成电路)的应用,文中给出RTA技术与普通热退火的比较,也给出了RTA技术在高速双极集成电路中应用的结果。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105960] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 何德湛,陈学良,杨华丽,等. 高速双极集成电路中的快速热退火[J]. 半导体技术,1992(01). |
APA | 何德湛,陈学良,杨华丽,&刘晓岚.(1992).高速双极集成电路中的快速热退火.半导体技术(01). |
MLA | 何德湛,et al."高速双极集成电路中的快速热退火".半导体技术 .01(1992). |
入库方式: OAI收割
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