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高速双极集成电路中的快速热退火

文献类型:期刊论文

作者何德湛 ; 陈学良 ; 杨华丽 ; 刘晓岚
刊名半导体技术
出版日期1992
期号01
ISSN号1003-353X
中文摘要本文介绍近年来发展较快的快速热退火(RTA)技术在高速双极IC(集成电路)的应用,文中给出RTA技术与普通热退火的比较,也给出了RTA技术在高速双极集成电路中应用的结果。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105960]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
何德湛,陈学良,杨华丽,等. 高速双极集成电路中的快速热退火[J]. 半导体技术,1992(01).
APA 何德湛,陈学良,杨华丽,&刘晓岚.(1992).高速双极集成电路中的快速热退火.半导体技术(01).
MLA 何德湛,et al."高速双极集成电路中的快速热退火".半导体技术 .01(1992).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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