硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴雪梅 ; 董业民 ; 诸葛兰剑 ; 叶春暖 ; 汤乃云 ; 俞跃辉 ; 宁兆元 ; 姚伟国 |
| 刊名 | 功能材料
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 02 |
| 关键词 | K1 薄膜 结构 光吸收 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 其他题名 | T1 硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究 |
| 中文摘要 | 采用射频磁控共溅射方法制备了纳米Ge颗粒尺寸的Ge SiO2 薄膜、非晶Si SiO2 薄膜和非晶AlSiO复合薄膜 ,分析了样品的结构 ,研究发现 3类样品均存在较强的光吸收 ,对于Ge SiO2 薄膜观察到光吸收边随Ge颗粒尺寸变小而蓝移的现象 ,这主要是由于Ge颗粒的量子限域效应所引起的。而对于非晶样品也出现了光吸收边蓝移和能隙展宽的现象 ,这可能是由于样品中的杂质或缺陷等受到限域作用的结果 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106065]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴雪梅,董业民,诸葛兰剑,等. 硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究[J]. 功能材料,2002(02). |
| APA | 吴雪梅.,董业民.,诸葛兰剑.,叶春暖.,汤乃云.,...&姚伟国.(2002).硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究.功能材料(02). |
| MLA | 吴雪梅,et al."硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究".功能材料 .02(2002). |
入库方式： OAI收割
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