硅中注砷的连续CO_2激光退火的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 林成鲁 ; 林梓鑫 ; 邹世昌 ; 范宝华 ; 吴恒显 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 1983 |
| 期号 | 03 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 中文摘要 | 利用高功率连续CO_2激光定点辐照,对砷离子注入的硅片进行退火。实验结果表明晶格损伤得到了完全恢复,注入砷原子的替位率与电激活率高,还克服了激光聚焦扫描退火时引起硅片表面变形的问题。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106090]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 林成鲁,林梓鑫,邹世昌,等. 硅中注砷的连续CO_2激光退火的研究[J]. 中国激光,1983(03). |
| APA | 林成鲁,林梓鑫,邹世昌,范宝华,&吴恒显.(1983).硅中注砷的连续CO_2激光退火的研究.中国激光(03). |
| MLA | 林成鲁,et al."硅中注砷的连续CO_2激光退火的研究".中国激光 .03(1983). |
入库方式： OAI收割
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