激光诱导铝热反应在多晶硅上制备Ni和NiSi_2薄膜
文献类型:期刊论文
作者 | 李丁 ; 周政卓 ; 曾永健 ; 龚焕明 ; 邱明新 ; 林成鲁 |
刊名 | 中国激光
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出版日期 | 1989 |
期号 | 01 |
关键词 | K1 薄膜 硅化物 激光诱导铝热反应 |
ISSN号 | 0258-7025 |
其他题名 | T1 激光诱导铝热反应在多晶硅上制备Ni和NiSi_2薄膜 |
中文摘要 | 提出一种生成难熔金属硅化物的新方法,用CO_2激光诱导氧化物-铝粉热化学反应在多晶硅表面获得Ni和NiSi_2膜.AES和XPS分析给出膜层的组分和深度浓度分布.通过对实验参量的分析认为,不同终相的形成与共晶过程有关. |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106203] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李丁,周政卓,曾永健,等. 激光诱导铝热反应在多晶硅上制备Ni和NiSi_2薄膜[J]. 中国激光,1989(01). |
APA | 李丁,周政卓,曾永健,龚焕明,邱明新,&林成鲁.(1989).激光诱导铝热反应在多晶硅上制备Ni和NiSi_2薄膜.中国激光(01). |
MLA | 李丁,et al."激光诱导铝热反应在多晶硅上制备Ni和NiSi_2薄膜".中国激光 .01(1989). |
入库方式: OAI收割
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