溅射工艺因素对Ni-Fe膜性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 蒋耀亮 ; 陈昌明 |
| 刊名 | 仪表材料
 |
| 出版日期 | 1983 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 中文摘要 | <正> 一、前言磁泡常规器件的许多功能是通过Ni-Fe合金薄膜图案完成的。因此,制备性能合乎器件要求的Ni-Fe膜是器件工艺重要的一环。磁泡器件对Ni-Fe膜的要求是:膜厚适当、矫顽力Hc低和磁阻系数η大。制备Ni-Fe膜曾采用电子束蒸发法,现大多改用高频溅射。和蒸发法相比,高频溅射有不少优点:(1)沉积的薄膜成份与靶的成份一致,这使得膜的成份和矫顽力易于控制;(2)沉积速率和膜厚容易调节;(3)无入射角影响;(4)薄膜与衬底结合牢固,使器件有较高的成品率。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106253]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蒋耀亮,陈昌明. 溅射工艺因素对Ni-Fe膜性能的影响[J]. 仪表材料,1983(01). |
| APA | 蒋耀亮,&陈昌明.(1983).溅射工艺因素对Ni-Fe膜性能的影响.仪表材料(01). |
| MLA | 蒋耀亮,et al."溅射工艺因素对Ni-Fe膜性能的影响".仪表材料 .01(1983). |
入库方式： OAI收割
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