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金刚石薄膜电子场发射研究进展

文献类型:期刊论文

作者茅东升 ; 赵俊 ; 李炜 ; 王曦 ; 柳襄怀 ; 诸玉坤 ; 周江云 ; 范忠 ; 李琼 ; 徐静芳
刊名材料导报
出版日期1998
期号06
关键词K1 金刚石薄膜 电子场发射性能 进展
ISSN号1005-023X
其他题名T1 金刚石薄膜电子场发射研究进展
中文摘要综述了近年来金刚石和类金刚石薄膜电子场发射性能的研究进展。金刚石薄膜是出色的场发射材料,由于其很低的或者是负的电子亲和势(导带能级位于真空能级之上)和良好的化学稳定性,在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106282]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
茅东升,赵俊,李炜,等. 金刚石薄膜电子场发射研究进展[J]. 材料导报,1998(06).
APA 茅东升.,赵俊.,李炜.,王曦.,柳襄怀.,...&徐静芳.(1998).金刚石薄膜电子场发射研究进展.材料导报(06).
MLA 茅东升,et al."金刚石薄膜电子场发射研究进展".材料导报 .06(1998).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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