金刚石薄膜电子场发射研究进展
文献类型:期刊论文
作者 | 茅东升 ; 赵俊 ; 李炜 ; 王曦 ; 柳襄怀 ; 诸玉坤 ; 周江云 ; 范忠 ; 李琼 ; 徐静芳 |
刊名 | 材料导报
![]() |
出版日期 | 1998 |
期号 | 06 |
关键词 | K1 金刚石薄膜 电子场发射性能 进展 |
ISSN号 | 1005-023X |
其他题名 | T1 金刚石薄膜电子场发射研究进展 |
中文摘要 | 综述了近年来金刚石和类金刚石薄膜电子场发射性能的研究进展。金刚石薄膜是出色的场发射材料,由于其很低的或者是负的电子亲和势(导带能级位于真空能级之上)和良好的化学稳定性,在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106282] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 茅东升,赵俊,李炜,等. 金刚石薄膜电子场发射研究进展[J]. 材料导报,1998(06). |
APA | 茅东升.,赵俊.,李炜.,王曦.,柳襄怀.,...&徐静芳.(1998).金刚石薄膜电子场发射研究进展.材料导报(06). |
MLA | 茅东升,et al."金刚石薄膜电子场发射研究进展".材料导报 .06(1998). |
入库方式: OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。