均匀化热处理对Nb_3Sn层厚的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱泽智 ; 徐诗鸣 ; 付耀先 ; 彭莹 ; 孙越 |
| 刊名 | 低温与超导
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| 出版日期 | 1991 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1001-7100 |
| 中文摘要 | 为使Nb_3Sn层的生长速率高和厚度趋于均匀,研究了富Sn中心扩散法制备超导材料的中肯均匀化热处理条件。实验结果表明,中肯均匀化温度为500—600℃;其时间与均匀化温度及基体中平均含Sn量等因素有关。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106355]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱泽智,徐诗鸣,付耀先,等. 均匀化热处理对Nb_3Sn层厚的影响[J]. 低温与超导,1991(01). |
| APA | 朱泽智,徐诗鸣,付耀先,彭莹,&孙越.(1991).均匀化热处理对Nb_3Sn层厚的影响.低温与超导(01). |
| MLA | 朱泽智,et al."均匀化热处理对Nb_3Sn层厚的影响".低温与超导 .01(1991). |
入库方式： OAI收割
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