离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 江炳尧 ; 张福民 ; 孙义林 ; 陈酉善 ; 柳襄怀 |
| 刊名 | 材料研究学报
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| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 05 |
| ISSN号 | 1005-3093 |
| 中文摘要 | 利用离子束增强沉积工艺，在硅基片上制备Si3N4／Si多层红外干涉滤波薄膜结果表明，N2+N的辅助轰击对于合成接近化学配比的Si3N4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.84实验测得的多层滤波薄膜的红外反射谱与理论值相当接近 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106417]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 江炳尧,张福民,孙义林,等. 离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜[J]. 材料研究学报,1997(05). |
| APA | 江炳尧,张福民,孙义林,陈酉善,&柳襄怀.(1997).离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜.材料研究学报(05). |
| MLA | 江炳尧,et al."离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜".材料研究学报 .05(1997). |
入库方式： OAI收割
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