离子注入碲镉汞迁移率谱的研究
文献类型:期刊论文
作者 | 李向阳 ; 赵军 ; 陆慧庆 ; 方家熊 |
刊名 | 红外与激光工程
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出版日期 | 2000 |
期号 | 02 |
关键词 | K1 迁移率谱 碲镉汞 离子注入 |
ISSN号 | 1007-2276 |
其他题名 | T1 离子注入碲镉汞迁移率谱的研究 |
中文摘要 | 文章介绍了分别采用厚度较大的样品和较薄的霍耳器件进行了离子注入和迁移率谱的测试。对于离子注入后的样品 ,迁移率谱给出明显的两个电导率峰 ,通过分析说明样品经过离子注入产生了高浓度和低迁移率的表面层。变温测试表明 :表面低迁移率成分基本不随温度变化 ,体内高迁移率成分随温度变化明显。迁移率谱是离子注入样品的有效的非破坏分析方法之一。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106439] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李向阳,赵军,陆慧庆,等. 离子注入碲镉汞迁移率谱的研究[J]. 红外与激光工程,2000(02). |
APA | 李向阳,赵军,陆慧庆,&方家熊.(2000).离子注入碲镉汞迁移率谱的研究.红外与激光工程(02). |
MLA | 李向阳,et al."离子注入碲镉汞迁移率谱的研究".红外与激光工程 .02(2000). |
入库方式: OAI收割
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