脉冲准分子激光PZT薄膜的制备
文献类型:期刊论文
作者 | 陈逸清 ; 郑立荣 ; 林成鲁 ; 邹世昌 |
刊名 | 中国激光
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出版日期 | 1994 |
期号 | 08 |
关键词 | K1 PZT 脉冲激光沉积(PLD) 铁电薄膜 |
ISSN号 | 02587025 |
中文摘要 | 本实验采用脉冲准分子激光沉积(PLD)法,在193nm波长,5Hz频率,4J/cm2能量密度条件下,分别在Si(100)和SiO2/Si衬底上成功地沉积Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜,并在不同的条件下对PZT薄膜进行退火处理。用XRD,RBS,ASR等方法分别测量了薄膜的结构、组份和厚度。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106544] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈逸清,郑立荣,林成鲁,等. 脉冲准分子激光PZT薄膜的制备[J]. 中国激光,1994(08). |
APA | 陈逸清,郑立荣,林成鲁,&邹世昌.(1994).脉冲准分子激光PZT薄膜的制备.中国激光(08). |
MLA | 陈逸清,et al."脉冲准分子激光PZT薄膜的制备".中国激光 .08(1994). |
入库方式: OAI收割
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