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脉冲准分子激光PZT薄膜的制备

文献类型:期刊论文

作者陈逸清 ; 郑立荣 ; 林成鲁 ; 邹世昌
刊名中国激光
出版日期1994
期号08
关键词K1 PZT 脉冲激光沉积(PLD) 铁电薄膜
ISSN号02587025
中文摘要本实验采用脉冲准分子激光沉积(PLD)法,在193nm波长,5Hz频率,4J/cm2能量密度条件下,分别在Si(100)和SiO2/Si衬底上成功地沉积Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜,并在不同的条件下对PZT薄膜进行退火处理。用XRD,RBS,ASR等方法分别测量了薄膜的结构、组份和厚度。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106544]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
陈逸清,郑立荣,林成鲁,等. 脉冲准分子激光PZT薄膜的制备[J]. 中国激光,1994(08).
APA 陈逸清,郑立荣,林成鲁,&邹世昌.(1994).脉冲准分子激光PZT薄膜的制备.中国激光(08).
MLA 陈逸清,et al."脉冲准分子激光PZT薄膜的制备".中国激光 .08(1994).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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