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脉冲准分子激光PZT铁电薄膜沉积及其特性研究

文献类型:期刊论文

作者陈逸清 ; 郑立荣 ; 张顺开 ; 林成鲁 ; 邹世昌
刊名科学通报
出版日期1995
期号01
ISSN号0023-074X
中文摘要<正>随着大规模集成电路的迅速发展,要求集成器件向三维器件及多功能器件发展.由于铁电薄膜具有非挥发性(non-volatility)、抗辐照性(radiation-hardness)、电极化特性,因此,铁电薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用研究已成为当前国际上新型功能材料与集成器件的热点,如铁电随机存储器(FERAM)、动态随机存储器(DRAM)、薄膜电容、SAW器件及红外探测器等.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106545]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
陈逸清,郑立荣,张顺开,等. 脉冲准分子激光PZT铁电薄膜沉积及其特性研究[J]. 科学通报,1995(01).
APA 陈逸清,郑立荣,张顺开,林成鲁,&邹世昌.(1995).脉冲准分子激光PZT铁电薄膜沉积及其特性研究.科学通报(01).
MLA 陈逸清,et al."脉冲准分子激光PZT铁电薄膜沉积及其特性研究".科学通报 .01(1995).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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