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慢正电子探针研究离子注入硅(100)产生的缺陷及其退火行为

文献类型:期刊论文

作者韩荣典 ; 周先意 ; 翁惠民 ; 朱警生 ; 南征 ; 虞旭东 ; 秦敢 ; 林成鲁
刊名核技术
出版日期1994
期号06
ISSN号CN 311342TL
中文摘要用慢正电子探针分别检测了P+注入和P注入Si(100)的两组样品。与基底样品相比较,注入样品中的缺陷导致了正电子湮没参数的显著变化。由湮没线形参数的变化拟合了两组样品注入损伤的深度分布、缺陷对正电子的捕获系数,讨论了P+和P注入损伤缺陷的差别和它们在退火过程中的不同行为。
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106550]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
韩荣典,周先意,翁惠民,等. 慢正电子探针研究离子注入硅(100)产生的缺陷及其退火行为[J]. 核技术,1994(06).
APA 韩荣典.,周先意.,翁惠民.,朱警生.,南征.,...&林成鲁.(1994).慢正电子探针研究离子注入硅(100)产生的缺陷及其退火行为.核技术(06).
MLA 韩荣典,et al."慢正电子探针研究离子注入硅(100)产生的缺陷及其退火行为".核技术 .06(1994).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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