Impact of within-wafer process variability on radiation response
文献类型：期刊论文
| 作者 | Hu,ZY ; Liu,ZL ; Shao,H ; Zhang,ZX ; Ning,BX ; Chen,M ; Bi,DW ; Zou,SC |
| 刊名 | MICROELECTRONICS JOURNAL
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 42期号:6页码:883-888 |
| 关键词 | ELSEVIER SCI LTD |
| ISSN号 | 0026-2692 |
| 学科主题 | Engineering ; Electrical & Electronic; Nanoscience & Nanotechnology |
| 公开日期 | 2012-04-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106719]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Hu,ZY,Liu,ZL,Shao,H,et al. Impact of within-wafer process variability on radiation response[J]. MICROELECTRONICS JOURNAL,2011,42(6):883-888. |
| APA | Hu,ZY.,Liu,ZL.,Shao,H.,Zhang,ZX.,Ning,BX.,...&Zou,SC.(2011).Impact of within-wafer process variability on radiation response.MICROELECTRONICS JOURNAL,42(6),883-888. |
| MLA | Hu,ZY,et al."Impact of within-wafer process variability on radiation response".MICROELECTRONICS JOURNAL 42.6(2011):883-888. |
入库方式： OAI收割
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