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Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation

文献类型:期刊论文

作者Liu,ZL ; Hu,ZY ; Zhang,ZX ; Shao,H ; Chen,M ; Bi,DW ; Ning,BX ; Zou,SC
刊名CHINESE PHYSICS B
出版日期2011
卷号20期号:7页码:70701
关键词IOP PUBLISHING LTD
ISSN号1674-1056
学科主题Physics ; Multidisciplinary
公开日期2012-04-10
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106756]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Liu,ZL,Hu,ZY,Zhang,ZX,et al. Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation[J]. CHINESE PHYSICS B,2011,20(7):70701.
APA Liu,ZL.,Hu,ZY.,Zhang,ZX.,Shao,H.,Chen,M.,...&Zou,SC.(2011).Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation.CHINESE PHYSICS B,20(7),70701.
MLA Liu,ZL,et al."Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation".CHINESE PHYSICS B 20.7(2011):70701.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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