Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation
文献类型:期刊论文
作者 | Liu,ZL ; Hu,ZY ; Zhang,ZX ; Shao,H ; Chen,M ; Bi,DW ; Ning,BX ; Zou,SC |
刊名 | CHINESE PHYSICS B
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出版日期 | 2011 |
卷号 | 20期号:7页码:70701 |
关键词 | IOP PUBLISHING LTD |
ISSN号 | 1674-1056 |
学科主题 | Physics ; Multidisciplinary |
公开日期 | 2012-04-10 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106756] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu,ZL,Hu,ZY,Zhang,ZX,et al. Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation[J]. CHINESE PHYSICS B,2011,20(7):70701. |
APA | Liu,ZL.,Hu,ZY.,Zhang,ZX.,Shao,H.,Chen,M.,...&Zou,SC.(2011).Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation.CHINESE PHYSICS B,20(7),70701. |
MLA | Liu,ZL,et al."Bias dependence of a deep submicron NMOSFET response to total dose irradiation".CHINESE PHYSICS B 20.7(2011):70701. |
入库方式: OAI收割
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