Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP
文献类型：期刊论文
| 作者 | He,DW ; Cheng,XH ; Xu,DW ; Wang,ZJ ; Yu,YH ; Sun,QQ ; Zhang,DW |
| 刊名 | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 29期号:1页码:01A803 |
| 关键词 | A V S AMER INST PHYSICS |
| ISSN号 | 1071-1023 |
| 学科主题 | Engineering ; Electrical & Electronic; Nanoscience & Nanotechnology; Physics ; Applied |
| 公开日期 | 2012-04-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106772]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | He,DW,Cheng,XH,Xu,DW,et al. Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,2011,29(1):01A803. |
| APA | He,DW.,Cheng,XH.,Xu,DW.,Wang,ZJ.,Yu,YH.,...&Zhang,DW.(2011).Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP.JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,29(1),01A803. |
| MLA | He,DW,et al."Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP".JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 29.1(2011):01A803. |
入库方式： OAI收割
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