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Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP

文献类型:期刊论文

作者He,DW ; Cheng,XH ; Xu,DW ; Wang,ZJ ; Yu,YH ; Sun,QQ ; Zhang,DW
刊名JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
出版日期2011
卷号29期号:1页码:01A803
关键词A V S AMER INST PHYSICS
ISSN号1071-1023
学科主题Engineering ; Electrical & Electronic; Nanoscience & Nanotechnology; Physics ; Applied
公开日期2012-04-10
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106772]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
He,DW,Cheng,XH,Xu,DW,et al. Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,2011,29(1):01A803.
APA He,DW.,Cheng,XH.,Xu,DW.,Wang,ZJ.,Yu,YH.,...&Zhang,DW.(2011).Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP.JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,29(1),01A803.
MLA He,DW,et al."Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP".JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 29.1(2011):01A803.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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