中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
Impact of substrate bias on radiation-induced edge effects in MOSFETs

文献类型:期刊论文

作者Hu,ZY ; Liu,ZL ; Shao-Hua ; Zhang,ZX ; Ning,BX ; Chen,M ; Bi,DW ; Zou,SC
刊名CHINESE PHYSICS B
出版日期2011
卷号20期号:12页码:120702
关键词IOP PUBLISHING LTD
ISSN号1674-1056
学科主题Physics ; Multidisciplinary
公开日期2012-04-10
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106809]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Hu,ZY,Liu,ZL,Shao-Hua,et al. Impact of substrate bias on radiation-induced edge effects in MOSFETs[J]. CHINESE PHYSICS B,2011,20(12):120702.
APA Hu,ZY.,Liu,ZL.,Shao-Hua.,Zhang,ZX.,Ning,BX.,...&Zou,SC.(2011).Impact of substrate bias on radiation-induced edge effects in MOSFETs.CHINESE PHYSICS B,20(12),120702.
MLA Hu,ZY,et al."Impact of substrate bias on radiation-induced edge effects in MOSFETs".CHINESE PHYSICS B 20.12(2011):120702.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。