Etch characteristics of Si1-xGex films in HNO3:H2O:HF
文献类型：期刊论文
| 作者 | Xue,ZY ; Wei,X ; Liu,LJ ; Chen,D ; Zhang,B ; Zhang,M ; Wang,X |
| 刊名 | SCIENCE CHINA-TECHNOLOGICAL SCIENCES
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 54期号:10页码:2802-2807 |
| 关键词 | SCIENCE PRESS |
| ISSN号 | 1674-7321 |
| 学科主题 | Engineering ; Multidisciplinary; Materials Science ; Multidisciplinary |
| 公开日期 | 2012-04-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106842]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xue,ZY,Wei,X,Liu,LJ,et al. Etch characteristics of Si1-xGex films in HNO3:H2O:HF[J]. SCIENCE CHINA-TECHNOLOGICAL SCIENCES,2011,54(10):2802-2807. |
| APA | Xue,ZY.,Wei,X.,Liu,LJ.,Chen,D.,Zhang,B.,...&Wang,X.(2011).Etch characteristics of Si1-xGex films in HNO3:H2O:HF.SCIENCE CHINA-TECHNOLOGICAL SCIENCES,54(10),2802-2807. |
| MLA | Xue,ZY,et al."Etch characteristics of Si1-xGex films in HNO3:H2O:HF".SCIENCE CHINA-TECHNOLOGICAL SCIENCES 54.10(2011):2802-2807. |
入库方式： OAI收割
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