Effects of N(2) addition on nanocrystalline diamond films by HFCVD in Ar/CH(4) gas mixture
文献类型：期刊论文
| 作者 | Rakha, SA ; Xintai, Z ; Zhu, DZ ; Guojun, Y |
| 刊名 | CURRENT APPLIED PHYSICS
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 10期号:1页码:5 |
| 关键词 | Hot filament CVD Nanocrystalline Diamond films Electron microscopy |
| ISSN号 | 1567-1739 |
| 通讯作者 | Guojun, Y (reprint author), Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Appl Phys, Shanghai 201800, Peoples R China |
| 学科主题 | Materials Science; Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-04-11 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/6903]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Rakha, SA,Xintai, Z,Zhu, DZ,et al. Effects of N(2) addition on nanocrystalline diamond films by HFCVD in Ar/CH(4) gas mixture[J]. CURRENT APPLIED PHYSICS,2010,10(1):5. |
| APA | Rakha, SA,Xintai, Z,Zhu, DZ,&Guojun, Y.(2010).Effects of N(2) addition on nanocrystalline diamond films by HFCVD in Ar/CH(4) gas mixture.CURRENT APPLIED PHYSICS,10(1),5. |
| MLA | Rakha, SA,et al."Effects of N(2) addition on nanocrystalline diamond films by HFCVD in Ar/CH(4) gas mixture".CURRENT APPLIED PHYSICS 10.1(2010):5. |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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