Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wei JS(魏劲松) ; Dun AH(顿爱欢) ; Ma XQ(马晓晴) ; Gan FX(干福熹) |
| 刊名 | materials chemistry and physics
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| 出版日期 | 2011 |
| 期号 | 131页码:406 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2012-04-25 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10493]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wei JS,Dun AH,Ma XQ,et al. Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films[J]. materials chemistry and physics,2011(131):406. |
| APA | Wei JS,Dun AH,Ma XQ,&Gan FX.(2011).Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films.materials chemistry and physics(131),406. |
| MLA | Wei JS,et al."Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films".materials chemistry and physics .131(2011):406. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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