低能Ar~+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,宋志棠,柳襄怀,郑里平 |
| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 06 |
| 中文摘要 | 采用低能Ar+离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)基底上沉积Pt膜,离子/原子到达比分别为0.1、0.2、0.3。若Ar+离子的入射角为0°,XRD谱分析表明,沉积的Pt膜均呈(111)和(200)混合晶向;当Ar+离子的入射角为45°,沉积的Pt膜均呈很强的(111)择优取向。因此若合理控制Ar+离子束的入射角,可在Mo/Si(100)衬底上制备出具有显著择优取向的Pt(111)薄膜。本文采用MonteCarlo方法模拟低能Ar+离子注入Pt单晶所引起的原子级联碰撞过程,得出Ar+离子入射单晶铂(200)晶面时,Ar+离子的溅射率与入射角的关系,对Pt膜择优取向的机理作了初步的探讨和分析。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-05-09 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/8131]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,宋志棠,柳襄怀,郑里平. 低能Ar~+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜[J]. 功能材料,2004(06). |
| APA | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,宋志棠,柳襄怀,郑里平.(2004).低能Ar~+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜.功能材料(06). |
| MLA | 江炳尧,蒋军,冯涛,任琮欣,张正选,宋志棠,柳襄怀,郑里平."低能Ar~+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜".功能材料 .06(2004). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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