Etching effects of low energy argon ion beam on porous anodic aluminum oxide membranes
文献类型：期刊论文
| 作者 | Sen, W（王森） ; Yu, GJ（俞国军） ; Gong, JL ; Li, QT ; Zhu, DZ ; Zhu, ZY |
| 刊名 | ACTA PHYSICA SINICA
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 55期号:3页码:1517 |
| 关键词 | porous anodic aluminum oxide membrane ion beam etching |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| 通讯作者 | Sen, W (reprint author), Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Appl Phys, Shanghai 201800, Peoples R China |
| 学科主题 | Instruments & Instrumentation; Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-05-11 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/8279]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Sen, W,Yu, GJ,Gong, JL,et al. Etching effects of low energy argon ion beam on porous anodic aluminum oxide membranes[J]. ACTA PHYSICA SINICA,2006,55(3):1517. |
| APA | Sen, W,Yu, GJ,Gong, JL,Li, QT,Zhu, DZ,&Zhu, ZY.(2006).Etching effects of low energy argon ion beam on porous anodic aluminum oxide membranes.ACTA PHYSICA SINICA,55(3),1517. |
| MLA | Sen, W,et al."Etching effects of low energy argon ion beam on porous anodic aluminum oxide membranes".ACTA PHYSICA SINICA 55.3(2006):1517. |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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