低气压水冷空腔电弧阴极研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王殿儒 ; 田大准 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
 |
| 出版日期 | 1985 |
| 卷号 | 5期号:1页码:18-24，36 |
| 关键词 | 电弧阴极 低气压 钡钨阴极 离子镀膜 空腔效应 水冷 离子激光器 发射电流 全金属结构 |
| ISSN号 | 1672-7126 |
| 通讯作者 | 王殿儒 |
| 中文摘要 | 本文介绍低气压水冷空腔电弧阴极的设计原理和实验结果。该冷电弧阴极在发射电流为150安培情况下已累计运行100小时以上并可继续运行。所设计的冷电弧阴极在用于全金属结构氩离子激光器和离子镀膜装置中时,均取得成功结果。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37272]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王殿儒,田大准. 低气压水冷空腔电弧阴极研究[J]. 真空科学与技术学报,1985,5(1):18-24，36. |
| APA | 王殿儒,&田大准.(1985).低气压水冷空腔电弧阴极研究.真空科学与技术学报,5(1),18-24，36. |
| MLA | 王殿儒,et al."低气压水冷空腔电弧阴极研究".真空科学与技术学报 5.1(1985):18-24，36. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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