电弧离子镀MCrAlY涂层的生长及其高温行为
文献类型：学位论文
| 作者 | 唐永吉 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2006-06-15 |
| 授予单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 授予地点 | 金属研究所 |
| 导师 | 孙超 |
| 关键词 | 电弧离子镀 MCrAlY涂层 高温氧化 |
| 学位专业 | 材料加工工程 |
| 中文摘要 | 本文研究了电弧离子镀MCrAlY涂层的生长及MCrAlY涂层与镍基高温合金界面区的组织结构，并探索了电弧离子镀MCrAlY涂层在钴基高温合金上的应用。研究结果表明： 1. 电弧离子镀MCrAlY涂层成分与靶材成分偏离，并且偏离程度随沉积偏压升高而加大。沉积态涂层主要由γ/γ’相组成。退火后β-(Ni,Co)Al，α-Cr和 σ-CoCr相析出，涂层均匀性和致密性显著改善。300V偏压下所沉积涂层的硬度及结合强度综合性能较好。 2. DSM11定向凝固高温合金表面施加涂层时，在1000℃时效过程中，基体界面区出现扩散诱发再结晶。再结晶区的厚度随时间变化近似符合抛物线规律。喷砂预处理样品与抛光预处理样品相比，其再结晶推进速度较快，区域也较宽，并且除再结晶区靠近界面处γ’相贫化外，在再结晶前端有胞状的γ’相析出。 3. 采用电弧离子镀技术在钴基高温合金K40上沉积了NiCoCrAlYSiB涂层，明显改善了K40合金在1000－1150℃的等温氧化性能及1000℃的循环氧化性能。 4. 沉积NiCoCrAlYSiB涂层后，K40钴基高温合金基体的近界面区结构无明显变化。在高温下，涂层与基体发生明显的互扩散。涂层与基体形成的互扩散区的厚度随时间变化符合抛物线规律。施加NiCoCrAlYSiB涂层后，涂层与基体界面区的析出物在数量上要明显少于渗铝涂层。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-04-10 |
| 页码 | 98 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/16983]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 唐永吉. 电弧离子镀MCrAlY涂层的生长及其高温行为[D]. 金属研究所. 中国科学院金属研究所. 2006. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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