新型细晶Ni_3Al涂层的高温氧化行为
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李明菲 ; 彭晓 ; 王福会 |
| 刊名 | 中国腐蚀与防护学报
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| 出版日期 | 2011-12-15 |
| 期号 | 6页码:414-418 |
| 关键词 | 氧化 细晶 复合电沉积 退火 孔洞 |
| 中文摘要 | 采用Ni和AI颗粒复合电沉积与后续真空退火的方法,分别于600℃和800℃退火温度下制备了两种新型细晶Ni_3Al涂层。与粗晶合金相比,经1000℃氧化20 h后,合金的氧化层发生大面积剥落,而两种涂层的氧化膜粘附性佳,其主要原因为细晶涂层内的大量晶界促进Al向氧化前沿的扩散,从而抑制了氧化膜/基体界面处"Kirkendall"孔洞的形成与长大。同时发现,800℃退火涂层氧化膜结构由外至内分别为NiO/NiAl_2O_4/Al_2O_3,而600℃退火涂层仅生成NiAl_2O_4与Al_2O_3,对该原因进行了探讨。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23262]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明菲,彭晓,王福会. 新型细晶Ni_3Al涂层的高温氧化行为[J]. 中国腐蚀与防护学报,2011(6):414-418. |
| APA | 李明菲,彭晓,&王福会.(2011).新型细晶Ni_3Al涂层的高温氧化行为.中国腐蚀与防护学报(6),414-418. |
| MLA | 李明菲,et al."新型细晶Ni_3Al涂层的高温氧化行为".中国腐蚀与防护学报 .6(2011):414-418. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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