块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙淼 ; 张艳 ; 王胜刚 |
| 刊名 | 腐蚀科学与防护技术
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| 出版日期 | 2011-07-15 |
| 期号 | 4页码:293-297 |
| 关键词 | 块体纳米晶工业纯铁(BNII) 深度轧制 盐酸溶液 腐蚀 |
| 中文摘要 | 借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量,研究块体纳米晶工业纯铁(BNII)和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌.结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位E_(corr)正向移动43 mV,自腐蚀电流I_(corr)由68.37μA?cm~(-2)减小为29.55μA?cm~(-2);电荷转移电阻Rt由427.0Ω?cm~2增大到890.1Ω?cm~(-2).两种材料发生的点蚀呈不同的形态:BNII的点蚀孔小而浅,腐蚀深度比较均匀,而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大.与CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23376]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙淼,张艳,王胜刚. 块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为[J]. 腐蚀科学与防护技术,2011(4):293-297. |
| APA | 孙淼,张艳,&王胜刚.(2011).块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为.腐蚀科学与防护技术(4),293-297. |
| MLA | 孙淼,et al."块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为".腐蚀科学与防护技术 .4(2011):293-297. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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