电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宗广霞 ; 彭晓 |
| 刊名 | 腐蚀科学与防护技术
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| 出版日期 | 2011-03-25 |
| 期号 | 2页码:111-115 |
| 关键词 | Cr纳米粉 电化学研究 共电沉积 电弧法 |
| 中文摘要 | 采用电弧法分别在高低两种H_2分压下制备了Cr纳米粉(标记为Cr_Ⅰ和Cr_Ⅱ).在电解液中浸泡过的两种Cr纳米粉的XPS分析结果表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面在电解液中形成的Cr_2O_3膜比Cr_Ⅰ薄.电化学分析表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面更易吸附Cl~-,导致其更容易与Ni共电沉积,这是因为表面氧化膜较薄的Cr_Ⅱ粉,氧化膜可被表面吸附的C1~-点蚀而穿透,导电性增强,使得Ni~(2+)更容易在其表面上还原,快速将Cr_Ⅱ嵌入共电沉积层中. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23493]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宗广霞,彭晓. 电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究[J]. 腐蚀科学与防护技术,2011(2):111-115. |
| APA | 宗广霞,&彭晓.(2011).电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究.腐蚀科学与防护技术(2),111-115. |
| MLA | 宗广霞,et al."电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究".腐蚀科学与防护技术 .2(2011):111-115. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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