TiO_2纳米孔结构的XPS研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 顾剑锋 ; 闻明 ; 刘刚 ; 吕坚 |
| 刊名 | 稀有金属材料与工程
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| 出版日期 | 2011-03-15 |
| 期号 | 3页码:523-525 |
| 关键词 | SMAT 纳米Ti XPS逐层分析 |
| 中文摘要 | 采用表面机械研磨处理技术(Surface mechanical attrition treatment,SMAT)在工业纯Ti的表面制备出一层厚度约30μm纳米结构表层,最表层的平均晶粒尺寸约30nm。随后在常温(25℃)下对其进行双氧水及400℃煅烧处理,并采用X射线光电子能谱(XPS)等手段进行了逐层结构分析。结果表明,SMAT Ti表面与粗晶Ti表层形成的氧化层结构存在明显差别。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23508]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 顾剑锋,闻明,刘刚,等. TiO_2纳米孔结构的XPS研究[J]. 稀有金属材料与工程,2011(3):523-525. |
| APA | 顾剑锋,闻明,刘刚,&吕坚.(2011).TiO_2纳米孔结构的XPS研究.稀有金属材料与工程(3),523-525. |
| MLA | 顾剑锋,et al."TiO_2纳米孔结构的XPS研究".稀有金属材料与工程 .3(2011):523-525. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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