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尖锐端头碳纳米管的制备与场发射特性(英文)

文献类型:期刊论文

作者张艳丽 ; 张莉莉 ; 侯鹏翔 ; 蒋华 ; 刘畅 ; 成会明
刊名新型炭材料
出版日期2011-02-15
期号1页码:52-56
关键词碳纳米管 尖锐端头 场发射
中文摘要采用氢电弧法制备了尖锐端头的碳纳米管,获得了具有三种特殊形貌的尖端,即锥形、颈缩形和铅笔状尖端。该特殊形貌的形成可归因于在原料中加入硅粉进而形成的结构缺陷。研究了所得碳纳米管的场发射特性,发现其阈值电场较低,仅为3.75V/mm;场发射电流密度可高达~1.6×105A/cm2;且场发射稳定性好。以上优异的场发射性能归结于该碳纳米管具有良好的结构完整性和独特的尖端结构特征。
公开日期2012-04-12
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23533]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张艳丽,张莉莉,侯鹏翔,等. 尖锐端头碳纳米管的制备与场发射特性(英文)[J]. 新型炭材料,2011(1):52-56.
APA 张艳丽,张莉莉,侯鹏翔,蒋华,刘畅,&成会明.(2011).尖锐端头碳纳米管的制备与场发射特性(英文).新型炭材料(1),52-56.
MLA 张艳丽,et al."尖锐端头碳纳米管的制备与场发射特性(英文)".新型炭材料 .1(2011):52-56.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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