电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望
文献类型：期刊论文
| 作者 | 胡吉明 ; 杨亚琴 ; 张鉴清 ; 曹楚南 |
| 刊名 | 中国腐蚀与防护学报
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| 出版日期 | 2011-02-15 |
| 期号 | 1页码:1-9 |
| 关键词 | 硅烷膜 电沉积 防腐蚀 进展 |
| 中文摘要 | 介绍电沉积硅烷Sol-gel薄膜的原理、方法、用途与研究进展,并着重介绍电沉积硅烷薄膜在金属表面防护处理中的应用。针对防护性的特殊要求,提出电沉积硅烷薄膜研究中的难点与展望。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23534]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡吉明,杨亚琴,张鉴清,等. 电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望[J]. 中国腐蚀与防护学报,2011(1):1-9. |
| APA | 胡吉明,杨亚琴,张鉴清,&曹楚南.(2011).电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望.中国腐蚀与防护学报(1),1-9. |
| MLA | 胡吉明,et al."电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望".中国腐蚀与防护学报 .1(2011):1-9. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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