电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制
文献类型:期刊论文
作者 | 李月巧 ; 李伟洲 ; 梁天权 ; 胡治流 ; 孙超 |
刊名 | 材料保护
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出版日期 | 2010-12-15 |
期号 | 12页码:25-27+30+85 |
关键词 | 电弧离子镀 AlCrN沉积层 初期氧化 真空退火 |
中文摘要 | 为了弄清AlCrN涂层在高温环境中的抗氧化机制,采用电弧离子镀技术制备了AlCrN涂层,对真空退火和短时氧化处理后的沉积层采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析和元素成分(EDS)进行了观察和分析。结果表明:真空退火处理的沉积层中CrN相逐渐转变为Cr2N,并释放出N2;在900,1000℃下氧化1~5h,沉积层中部分Cr2N与O2反应生成Cr2O3,此时涂层的物相以Cr2N和Cr2O3为主,并含少量CrAlN相;氧化至10h,沉积层表面生成以Cr2O3和Al2O3为主的氧化膜,此氧化膜的生成有利于涂层抗氧化性能的提高。 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23579] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李月巧,李伟洲,梁天权,等. 电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制[J]. 材料保护,2010(12):25-27+30+85. |
APA | 李月巧,李伟洲,梁天权,胡治流,&孙超.(2010).电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制.材料保护(12),25-27+30+85. |
MLA | 李月巧,et al."电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制".材料保护 .12(2010):25-27+30+85. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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