退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王宏 ; 张文杰 ; 朱圣龙 ; 李瑛 ; 王福会 |
| 刊名 | 材料保护
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| 出版日期 | 2010-02-15 |
| 期号 | 2页码:57-60+81 |
| 关键词 | TiO_2薄膜 磁控溅射 退火 光催化活性 |
| 中文摘要 | 采用磁控反应溅射制备了纯TiO2薄膜和Fe掺杂的TiO2薄膜,研究了退火对2种TiO2薄膜结构和光催化活性的影响。退火前TiO2薄膜与基体结合良好,退火后薄膜发生了开裂,薄膜与基体的结合变差。TiO2薄膜在700℃以下退火后仍保持着锐钛矿型晶体结构,但衍射峰的强度有明显的增强,说明组成薄膜的晶粒在退火过程中长大;当退火温度高于800℃时,发生了从锐钛矿向金红石型的转变。退火后TiO2薄膜的紫外可见光透射率有较大辐度的下降;甲基橙溶液的光催化降解速率随着退火温度升高而下降。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23880]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王宏,张文杰,朱圣龙,等. 退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响[J]. 材料保护,2010(2):57-60+81. |
| APA | 王宏,张文杰,朱圣龙,李瑛,&王福会.(2010).退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响.材料保护(2),57-60+81. |
| MLA | 王宏,et al."退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响".材料保护 .2(2010):57-60+81. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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