电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O_2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈崇木 ; 崔宇 ; 张涛 ; 邵亚薇 ; 孟国哲 ; 王福会 ; 李晓刚 ; 董超芳 |
| 刊名 | 腐蚀科学与防护技术
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| 出版日期 | 2009-03-25 |
| 期号 | 2页码:94-96+127 |
| 关键词 | 纯镁 薄液膜 氧气 腐蚀 |
| 中文摘要 | 用电化学法研究了纯镁在未除氧和除氧的下不同厚度薄液膜下的腐蚀行为.结果表明:薄液膜下纯镁腐蚀的阴极过程受氢还原控制;液膜厚度的减小使其阴极过程和阳极过程都受到抑制,对阳极过程影响很大.氧气的存在对阳极过程的影响很大,并使得纯镁表面易于生成表面膜,表面膜更加连续和致密. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24158]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈崇木,崔宇,张涛,等. 电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O_2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响[J]. 腐蚀科学与防护技术,2009(2):94-96+127. |
| APA | 陈崇木.,崔宇.,张涛.,邵亚薇.,孟国哲.,...&董超芳.(2009).电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O_2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响.腐蚀科学与防护技术(2),94-96+127. |
| MLA | 陈崇木,et al."电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅰ-O_2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响".腐蚀科学与防护技术 .2(2009):94-96+127. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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