中国科学院机构知识库网格系统: 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO

文献类型：期刊论文


作者	张文杰 ; 朱圣龙 ; 李瑛 ; 王福会 ; 何红波
刊名	电镀与精饰
出版日期	2009-03-15
期号	3 页码:1-4
关键词	TiO2薄膜磁控反应溅射钇掺杂光催化活性降解
中文摘要	采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜。X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的。钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成。薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加。钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降。
公开日期	2012-04-12
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24167]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张文杰,朱圣龙,李瑛,等. 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究[J]. 电镀与精饰,2009(3):1-4.
APA	张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,&何红波.(2009).磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究.电镀与精饰(3),1-4.
MLA	张文杰,et al."磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究".电镀与精饰 .3(2009):1-4.

入库方式： OAI收割

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