CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高松华 ; 闻立时 ; 周克省 ; 刘洋 ; 雷明凯 |
| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2009-01-20 |
| 期号 | 1页码:79-81 |
| 关键词 | 硅橡胶 容性耦合等离子体 表面改性 XPS |
| 中文摘要 | 利用CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶进行表面双疏改性,用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分变化,并利用接触角测量研究了表面疏水疏油改性效果。结果表明,CF4射频容性耦合等离子体通过等离子体表面氟化和剥离或刻蚀的相互竞争作用在硅橡胶表面引入大量硅氟基团和少量碳氟基团,两者协同作用使硅橡胶的疏水疏油性能得到大幅提高。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24220]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高松华,闻立时,周克省,等. CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究[J]. 功能材料,2009(1):79-81. |
| APA | 高松华,闻立时,周克省,刘洋,&雷明凯.(2009).CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究.功能材料(1),79-81. |
| MLA | 高松华,et al."CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究".功能材料 .1(2009):79-81. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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