双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王贺权 ; 王志坚 ; 巴德纯 ; 沈辉 ; 陈达 ; 闻立时 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2008-09-15 |
| 期号 | 5页码:450-453 |
| 关键词 | 直流反应磁控溅射 TiOxNy 选择性吸收薄膜 反射率 |
| 中文摘要 | 应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响。结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1∶1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别αs=0.920、ε=0.03。 |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24327]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,王志坚,巴德纯,等. 双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究[J]. 真空科学与技术学报,2008(5):450-453. |
| APA | 王贺权,王志坚,巴德纯,沈辉,陈达,&闻立时.(2008).双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究.真空科学与技术学报(5),450-453. |
| MLA | 王贺权,et al."双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究".真空科学与技术学报 .5(2008):450-453. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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