NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 曲文生 ; 张功 ; 楼琅洪 ; 董加胜 ; 杨柯 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 2008-03-11 |
| 期号 | 3页码:341-345 |
| 关键词 | 电导率 分散能力 Ni沉积层 择优取向 |
| 中文摘要 | 通过测量极化和分散能力,对以Watts型电镀Ni溶液为基础的几种溶液进行了研究,考察了NiSO_4和NaCl含量的影响,并采用SEM和XRD方法对Ni沉积层形貌及其结晶择优取向进行了分折.结果表明,综合考虑电导率和极化度的乘积,是显著提升溶液分散能力的重要途径;电沉积Ni镀层表面形貌主要受控于溶液中阴离子种类和数量,其晶粒尺寸和择优取向受控于过电位. |
| 公开日期 | 2012-04-12 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24481]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曲文生,张功,楼琅洪,等. NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响[J]. 金属学报,2008(3):341-345. |
| APA | 曲文生,张功,楼琅洪,董加胜,&杨柯.(2008).NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响.金属学报(3),341-345. |
| MLA | 曲文生,et al."NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响".金属学报 .3(2008):341-345. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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