一种含铼单晶高温合金的恒温氧化行为
文献类型:期刊论文
作者 | 刘春廷 ; 孙晓峰 ; 马继 ; 丛海燕 ; 刘万峰 |
刊名 | 稀有金属材料与工程
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出版日期 | 2007-08-15 |
期号 | 8页码:1407-1411 |
关键词 | 单晶 镍基高温合金DD32 Re 恒温氧化 |
中文摘要 | 采用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)及能谱(EDAX)等手段,研究了含铼单晶高温合金DD32的高温氧化行为。结果表明,氧化初期增重迅速,由NiO的形成和生长控制,符合抛物线规律;随着氧化时间的延长,氧化增重变得十分缓慢,由α-Al2O3的形成和生长控制。在900,1000℃时的氧化膜由3层组成,最外层为(Ni,Co)O层,中间层由复杂化合物以及尖晶石化合物等组成,内层为靠近基体合金的连续的Al2O3层。氧化过程中,分布在中间层的富Re和W相起到"扩散障"的作用,降低基体合金中Al向外的扩散速率,在内层形成均匀连续的Al2O3氧化膜层,进而抑制氧化膜生长,导致氧化速率降低。 |
公开日期 | 2012-04-12 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24651] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘春廷,孙晓峰,马继,等. 一种含铼单晶高温合金的恒温氧化行为[J]. 稀有金属材料与工程,2007(8):1407-1411. |
APA | 刘春廷,孙晓峰,马继,丛海燕,&刘万峰.(2007).一种含铼单晶高温合金的恒温氧化行为.稀有金属材料与工程(8),1407-1411. |
MLA | 刘春廷,et al."一种含铼单晶高温合金的恒温氧化行为".稀有金属材料与工程 .8(2007):1407-1411. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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